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定期對(duì)edi模塊設(shè)備進(jìn)行大流量、低壓力、低PH值的沖洗有利

作者:特純膜 發(fā)布日期: 瀏覽次數(shù):831次
信息摘要:
反滲透設(shè)備的清洗方法。定期對(duì)edi模塊設(shè)備進(jìn)行大流量、低壓力、低PH值的沖洗有利于剝除附著在膜表面的污垢,維持膜性能,或當(dāng)反滲透設(shè)備

定期對(duì)edi模塊設(shè)備進(jìn)行大流量、低壓力、低PH值的沖洗有利

一、低壓沖洗反滲透設(shè)備

  反滲透設(shè)備的清洗方法。定期對(duì)edi模塊設(shè)備進(jìn)行大流量、低壓力、低PH值的沖洗有利于剝除附著在膜表面的污垢,維持膜性能,或當(dāng)反滲透設(shè)備進(jìn)水SDI突然升高超過(guò)5.5以上時(shí),應(yīng)進(jìn)行低壓沖洗,待SDI值調(diào)至合格后再開(kāi)機(jī)。

二、反滲透設(shè)備停運(yùn)保護(hù)

  由于生產(chǎn)的波動(dòng),反滲透設(shè)備不可避免地要經(jīng)常停運(yùn),短期或長(zhǎng)期停運(yùn)時(shí)必須采取保護(hù)措施,不適當(dāng)?shù)靥幚頃?huì)導(dǎo)致膜性能下降且不可恢復(fù)。短期保存適用于停運(yùn)15d一下的系統(tǒng),可采用每1-3d低壓沖洗的方法來(lái)保護(hù)反滲透設(shè)備。實(shí)踐發(fā)現(xiàn),水溫20℃以上時(shí),反滲透設(shè)備中的水存放3d就會(huì)發(fā)臭變質(zhì),有大量細(xì)菌繁殖。

  因此,建議水溫高于20℃時(shí),每2d或1d低壓沖洗一次,水溫低于20℃時(shí),可以每3d低壓沖洗一次,每次沖洗完后需關(guān)閉凈水設(shè)備反滲透裝置上所以進(jìn)出口閥門。

三、反滲透膜化學(xué)清洗

  在正常運(yùn)行條件下,反滲透膜也可以被無(wú)機(jī)污垢、膠體、微生物、金屬氧化物等污染,這些物質(zhì)沉積在膜表面會(huì)引起凈水設(shè)備反滲透裝置出力下降或脫鹽率下降、壓差升高,edi模塊甚至對(duì)膜造成不可恢復(fù)的損傷,因此,為了恢復(fù)良好的透水和除鹽性能,需要對(duì)膜進(jìn)行化學(xué)清洗。一般3-12個(gè)月清洗一次,如果每個(gè)月不得不清洗一次,這說(shuō)明應(yīng)該改善;實(shí)際工作時(shí),對(duì)軟化水出水硬度有一定的要求。達(dá)到此硬度時(shí),雖然尚有部分交換劑具有一定的交換能力,也要停止交換進(jìn)行再生,按此時(shí)計(jì)算的離子交換刑的交換能力稱為工作交換容里,單位為mol/m3(濕樹(shù)脂K敁然工作容量比全交換容費(fèi)要低。即使同一類型的交換劑,工作交換容量也是個(gè)變值。它與許多因素有關(guān):厴?biāo)|(zhì)和軟水控制標(biāo)準(zhǔn);交換劑粒度和交換劑層高度;再生方式;交換器的構(gòu)造及運(yùn)行條件等等。edi模塊為了在選型時(shí)把上述有關(guān)因素及相互制約的關(guān)系、對(duì)工作熔量的影響都考慮進(jìn)去,設(shè)計(jì)部門通過(guò)總結(jié)運(yùn)行數(shù)據(jù),制定了交換器的工藝計(jì)算指標(biāo),指導(dǎo)設(shè)計(jì)選型。


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